近日，由思坦科技与南方科技大学、香港科技大学、国家第三代半导体技术创新中心（苏州）联合攻关的重大成果——基于高功率 AlGaN 深紫外 Micro-LED 显示的无掩膜光刻技术，于10月15日正式在国际顶尖权威学术期刊 Nature Photonics 上发表。思坦科技Micro-LED研究院青年研究员冯锋博士为第一作者，思坦科技创始人刘召军博士为通讯作者。本项工作中由思坦科技提供驱动IC芯片，并承担示范应用工作。 

　　目前，这种基于深紫外Micro-LED显示技术的无掩膜光刻方法，已经被验证成功应用于 Micro-LED 显示屏幕的制造中。这一突破显著节省了光刻掩模板制造的高成本，同时在效率上远超电子束直写的无掩膜曝光技术。更具划时代意义的是，该研究标志着深紫外 Micro-LED 技术将开启无掩膜光刻的创新解决方案，这对于包括半导体在内的众多行业而言都是一项革命性进展。 

　　作为专注于光子学领域的专业期刊，Nature Photonics 发表高质量、经过同行评审的研究成果，内容涵盖光的产生、操纵和检测的各个方面。本次思坦科技联合研究成果在 Nature Photonics 上的发表，再次体现了思坦科技的技术研发和产业化实力。 

　　接下来，思坦团队将继续提升 AlGaN 深紫外 Micro-LED 的各项性能，并对原型机进行改进，开发2~8k高分辨率的深紫外 Micro-LED 显示产品，为半导体制造领域提供更高效、更具成本效益的芯片制造解决方案，助力全球科技产业的快速升级。或许在不久的未来，便可在科研、医疗、特殊场景应用等领域内见证该项技术的产业化应用。